展会没有“大家伙”，但藏着更大信号！

我们之前已经多次强调，新凯来的展会不会有光刻机，但还是有人抱着不切实际的期待。今天在新凯来展会现场，听到最多的疑问就是光刻机在哪。

要知道，一台光刻机重达 150 吨，根本不可能随便搬到展会现场；还是说老美那边，正在想方设法的搞我们，你秀秀新技术，让他知道你的痛点，短板在哪，继续给你搞个断供？这显然不现实。

昨天市场上就流传着各种关于新凯来展会的不实信息，说新凯来搭了双层展台，外层展示干式 DUV 原型机，内层封闭只对预约客户开放，还说展馆没开门媒体就一号难求。

但我昨天晚上在视频号上就已经给大家看过新凯来展台基本搭建完成的样子，根本没有所谓的双层结构和内外围之分。

今天到了现场才发现，不仅没有光刻机，想跟新凯来的高管聊一聊市场关注的话题都很难。展台上除了刻蚀、扩散、沉积设备的模型，几乎见不到工作人员的身影。

好不容易看到一个从会议室出来的人，追上去交流后，对方却说自己是来做兼职的。

很明显，新凯来这次展会全程处于封嘴状态，工作人员对相关问题都避而不答。

那么新凯来工作人员封上嘴巴和把头摇成拨浪鼓的原因是什么？

一、其实是新凯来内忧外患的参展环境

我这次去展会，重点不是看新凯来，而是观察它的竞争对手和上下游企业对它的评价，这也让我明白了新凯来封嘴的真正原因。

新凯来这次展出的设备，和今年 3 月份上海展会的刻蚀、扩散、薄膜沉积设备基本一致，没有太多新花样。现场发布的新产品，是子公司的 EDA 软件和示波器

EDA软件用于芯片设计，示波器用于芯片研发调试，这台示波器的技术水平目前国内第一、全球第二，已经突破了外部封锁，属于先进制程中被卡脖子的关键设备，只是不是光刻机。

之所以整个展会氛围都很谨慎，主要是因为参展企业面临着内忧外患的环境。一方面是国内有些缺乏常识的投资者，喜欢随意炒作概念。

比如上海微电子，9月23日工博会上传出一张 EUV 测试机的照片，就被不实解读为 EUV 已经突破，导致上海微电子被发改委提醒注意展会宣传，这次只能带着 k 线光刻机模型和 i 线光刻机资料参展。

另一方面，展会现场有彭博社、路透社、金融时报等外媒记者伪装成观众打探消息。

上海微电子的销售说，他们讲解技术时，一旦看到挂着记者证的外媒，就会减少关键信息披露；没想到这些外媒还会现场更换成参展企业的媒体证，试图获取更多内容，整个展会搞得像谍战片一样。

更重要的是，新凯来内部曾有人违反保密协议，透露了 EUV 光刻机的进展，后续也受到了相应处理。

所以现在企业们都格外谨慎，生怕关键技术信息被别有用心的人利用，变成后续制裁的依据。

二、上海微电子展台：谨慎背后的产业信号

相比于新凯来展台的热闹，诞生了中国第一台光刻机的上海微电子展台，今天人流量反而不大，这也让我有了更多交流机会。

聊到 i 线光刻机和 k 线 DUV 光刻机时，对方还能正常沟通，但一提到a线浸润式光刻机，工作人员就开始避而不答，只是用动作暗示知道但不能说。

这种回避其实已经很能说明问题，不是没有相关技术进展，而是出于保密需求不能公开，这对关注产业的人来说，已经是足够有价值的信号。

三、上下游与竞争对手视角看新凯来的真实成长

离开新凯来和上海微电子的展台，我还走访了新凯来的上下游企业和竞争对手，得到了不少有价值的信息。

从上游企业富创精密那里了解到，新凯来今年的订单弹性很明显，去年因为技术问题丢掉的订单，今年已经全部拿了回来。

从竞争对手拓荆科技处得知，深圳目前几大新建晶圆厂还处于小试线阶段，正在验证工艺和良率，等到产线跑通、良率提升后，就会大规模采购设备填充厂房。

而产线跑通、批量采购设备的过程，也意味着光刻机得到了更多可靠性验证。

四、不用等展会，这些方式能见证国产光刻机进展

其实大家不用纠结于展会有没有光刻机，后续有很多途径能见证国产光刻机的真实进展。

首先是下个月即将发布的 Mate 80 手机，它的芯片来源、制造所用到的光刻机和设备，都会是对国产光刻机实力的一次验证。

其次，根据我们之前对相关上市公司的调研，某通信行业巨头计划 2027 年实现王者归来，目标恢复到 2019 年被制裁前的国际市场份额。

在外部对其晶圆代工、先进制程设备全面封锁的背景下，要实现这一目标，必然要依赖国产光刻机保障芯片供应。

此外，新凯来目前的主要市场集中在华为系晶圆厂，有华为兜底，这些晶圆厂会对新凯来的设备进行指标性、任务性采购。

经过长时间的可靠性验证和良率爬坡，新凯来有望从被扶持阶段，成长为能独立参与市场竞争的企业，未来可能会进入中芯、华虹、长鑫、长存等国内晶圆巨头的供应链，与北方华创、中微公司等老牌设备企业竞争。

五、被忽略的预期差：新凯来设备的真实进步

很多人觉得新凯来这次展会没诚意，展出的设备和半年前没区别，但通过和它的同行、上下游企业交流后发现，虽然设备模型没变，但其完善程度、可靠程度已经有了大幅提升。

光刻机只是新凯来的业务之一，目前甚至还不是核心业务。

真正让新凯来在两三年内迅速成长为全国前三的全平台半导体设备龙头的，正是这次展出的刻蚀、扩散、薄膜沉积设备。

在华为的支持下，这半年新凯来的设备在华为系晶圆厂经过了充分的可靠性验证和工艺调试，市场认可度正在不断提高，未来获得更大批量订单的概率很大。

这对新凯来的上游零部件企业来说，是中长期的基本面支撑，而非短期利好兑现后的概念炒作。

半年前我们向产业内人士了解新凯来时，对方态度还比较平淡；现在提到新凯来，评价都是成长很快、实力强劲。

这种进步，显然不是一个小小的展台能完全展示的，需要通过产业链各方的反馈才能全面感知。

后续我们会继续利用机构的人脉和产业资源，持续跟踪国产半导体先进制程自主可控的产业链动态，为大家带来更真实的产业信息。